<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rss version="2.0"
	xmlns:content="http://purl.org/rss/1.0/modules/content/"
	xmlns:wfw="http://wellformedweb.org/CommentAPI/"
	xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"
	xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom"
	xmlns:sy="http://purl.org/rss/1.0/modules/syndication/"
	xmlns:slash="http://purl.org/rss/1.0/modules/slash/"
	>

<channel>
	<title>Электронный научно-практический журнал «Современная техника и технологии» &#187; protective and antiemission coatings</title>
	<atom:link href="http://technology.snauka.ru/tags/protective-and-antiemission-coatings/feed" rel="self" type="application/rss+xml" />
	<link>https://technology.snauka.ru</link>
	<description></description>
	<lastBuildDate>Fri, 30 Jan 2026 18:56:12 +0000</lastBuildDate>
	<language>ru</language>
	<sy:updatePeriod>hourly</sy:updatePeriod>
	<sy:updateFrequency>1</sy:updateFrequency>
	<generator>http://wordpress.org/?v=3.2.1</generator>
		<item>
		<title>Плазменные технологии в производстве вакуумных приборов</title>
		<link>https://technology.snauka.ru/2015/08/7706</link>
		<comments>https://technology.snauka.ru/2015/08/7706#comments</comments>
		<pubDate>Mon, 03 Aug 2015 10:20:15 +0000</pubDate>
		<dc:creator>Сенин Максим Александрович</dc:creator>
				<category><![CDATA[Общая рубрика]]></category>
		<category><![CDATA[generating lamp]]></category>
		<category><![CDATA[plasma source]]></category>
		<category><![CDATA[protective and antiemission coatings]]></category>
		<category><![CDATA[vacuum-arc discharge]]></category>
		<category><![CDATA[вакуумно-дуговой разряд]]></category>
		<category><![CDATA[генераторная лампа]]></category>
		<category><![CDATA[защитные и антиэмиссионные покрытия]]></category>
		<category><![CDATA[источник плазмы]]></category>

		<guid isPermaLink="false">https://technology.snauka.ru/?p=7706</guid>
		<description><![CDATA[Генераторные лампы – это класс электровакуумных приборов, который за время своего существования расширил и упрочил свои позиции в телевидении и радиовещании, радиолокации и космической связи, управлении ракетными комплексами и др. [1, 2]. Возможность работы генераторных ламп, как в режиме постоянного тока, так и в СВЧ-диапазоне, обеспечена физическим принципом действия и конструктивным их исполнением, способным обеспечить [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p><span style="text-align: justify;">Генераторные лампы – это класс электровакуумных приборов, который за время своего существования расширил и упрочил свои позиции в телевидении и радиовещании, радиолокации и космической связи, управлении ракетными комплексами и др. [1, 2].</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>Возможность работы генераторных ламп, как в режиме постоянного тока, так и в СВЧ-диапазоне, обеспечена физическим принципом действия и конструктивным их исполнением, способным обеспечить минимизацию их реактивных параметров (минимальная индуктивность и возможно малые междуэлектродные емкости), и элементов радиотехнической цепи.<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>Реализуемая форма анодно-сеточных характеристик приборов обеспечивает высокую точность усиления сигнала и базируется на конструктивно-технологических особенностях их изготовления. Снижению нелинейных искажений выходного сигнала способствует выявление параметров, оказывающих влияние на характеристики генераторных ламп. Эта процедура предусматривает оптимизацию конструкций термоэмиссионного катода, структуры сеточных электродов и анода.<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>В качестве источника электронов в мощных генераторных лампах используется прямонакальный вольфрамовый торированный карбидированный катод. Конструкция катода и его формоустойчивость обуславливают его хорошую тепловую экранировку и позволяет при рабочей температуре катода в 2000 К достичь эффективность около 100 мА/Вт [3].<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>Экранирующий сеточный электрод в процессе работы находится при больших положительных напряжениях, поэтому при условии длительных импульсов, его температура может значительно превысить среднюю рабочую температуру. В этом случае именно величина предельно допустимой мощности рассеяния на этом электроде и определяет работоспособность лампы в различных импульсных режимах.<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>Использование вакуумно-дуговых устройств позволило отработать на практике процессы плазмохимического синтеза соединений, применяемых в качестве защитных и антиэмиссионных покрытий. В этом случае, изменяя направленным образом параметры плазменного потока: концентрацию заряженных частиц и сопровождающее магнитное поле, а также потенциал, задаваемый на обрабатываемое изделие, и давление реакционного газа, удается управлять свойствами конденсата и достигать необходимого качества покрытия [4].<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;">Кристаллические структуры соединений переходных металлов с углеродом и азотом можно описать как плотнейшие или близкие к ним упаковки металлических атомов, в междоузлия которых внедрены атомы неметаллов. В этом случае важными характеристиками являются взаимодействие металл – неметалл и геометрия междоузлия. Внедренный атом и ближайшие атомы металла образуют структурную единицу – координационный полиэндр.</p>
<p style="text-align: justify;"><span>Для получения карбидных соединений переходных металлов использовался широкий спектр газов начиная от метана (СН<sub>4</sub>) и кончая циклогексаном (С<sub>6</sub>Н<sub>12</sub>) [5]. Получено, что с увеличением относительной молекулярной массы углеводородных молекул выход углерода увеличивается, однако при этом наблюдается повышенный выход сажи<span style="color: black;">. Размер частиц сажи, а также удельная поверхность и степень структурности зависела от условий образования [6].</span><br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>При использовании паров бензола, обладающего наименьшим первым потенциалом ионизации 9.24 эВ и температурой кипения 353 К, плазмохимический синтез соединения может протекать по следующей схеме расщепления углеводородов с длинными связями на молекулы меньшей длины:<br />
</span></p>
<p style="text-align: center;"><img src="https://technology.snauka.ru/wp-content/uploads/2015/08/080315_0922_1.png" alt="" /><span><br />
</span></p>
<p style="text-align: center;"><img src="https://technology.snauka.ru/wp-content/uploads/2015/08/080315_0922_2.png" alt="" /><span><br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span><span>Сбалансированный поток молекул газа (<em>dn</em><sub>газ</sub>/<em>dt</em>) определялся с учетом коэффициента химической реакции <em>А</em> взаимодействия металла с реакционно-способным газом: (<em>d</em></span><span><sup>2</sup><em>n</em><sub>i</sub>)/(<em>dS dt</em>) = <em>A</em>(<em>d</em></span><span><sup>2</sup><em>n</em><sub>газ</sub>)/(<em>dS dt</em>) [7].<br />
</span></span></p>
<p style="text-align: justify;"><span><span>При анализе процесса синтеза карбидов учитывалась особенность диссоциации молекулы, происходящей под действием электронной бомбардировки. При условии полной диссоциации поток атомов углерода определялся следующим образом: (<em>d</em><sup>2</sup><em>n</em><sub>газ</sub>/<em>dt</em>) = <em>А</em></span><span>(<em>dn</em><sub>C6H6</sub>/<em>dt</em>) exp(–<em>W</em>/<em>kT</em><sub>e</sub>), где <em>dn</em><sub>C6H6</sub>/<em>dt</em> – поток молекул бензола, поступающих в вакуумную камеру через натекатель; <em>W</em> – энергия разрыва связей в молекуле бензола. Исходя из этих условий, определялся минимальный поток атомов газа, необходимый для синтеза карбидных покрытий.<br />
</span></span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>Разработанный технологический режим [8] позволил получить покрытие ZrC с хорошо сформированной кристаллической структурой с преимущественной ориентацией (111) [9].<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;">Для получения антиэмиссионных покрытий отработан метод синтеза карбида молибдена, при этом следует отметить следующие получаемые типы: β – Мо<sub>2</sub>C, α – Мо<sub>2</sub>C, β – МоC<sub>1–<em>x</em></sub>; α – МоC<sub>1–<em>x</em></sub>. При низких температурах устойчив только карбид α – Мо<sub>2</sub>C.</p>
<p style="text-align: justify;">Кроме указанных карбидов получены карбиды вольфрама. Наличие различных фаз карбида вольфрама объясняется сложностью его формирования при указанных температурах.</p>
<p style="text-align: justify;">Для обработки длинномерных или крупногабаритных изделий, и получения равномерного по сечению плазменного потока, было создано вакуумно-дуговое устройство протяженной конструкции, которые в настоящее время не имеют еще отработанных конструкторских решений. На базе этого была разработана и изготовлена конструкция протяженного источника плазмы, работающего в импульсном режиме и формирующего направленный ленточный поток, за счет наличия внешней магнитной системы [10]. За счет равномерного распределения плотности ионного тока вдоль оси катода и упорядоченного характера перемещения катодных пятен по рабочей поверхности катода удается получить покрытие, равномерное по высоте крупногабаритных изделий.</p>
<p style="text-align: justify;"><span>Дальнейшая разработка более мощных генераторных ламп и необходимость повышения производительности оборудования потребовали использования установок с большим объемом вакуумных камер и большим количеством вакуумно-дуговых испарителей. При этом для равномерного нанесения покрытий на крупногабаритные изделия необходимо было решить проблемы взаимодействия и управления плазменными потоками, сформированными различными испарителями.<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;">Для повышения качества проводимого плазмохимического синтеза в рабочем объеме дополнительно вводится аргон. При первичной ионизации в некоторых атомарных газах, в том числе и у аргона, около 10 % ионизированных атомов, создаваемых электронами средней энергии, могут оказаться двухзарядными и около 1 % – трехзарядными. Данный эффект целесообразно использовать при получении высокой степени ионизированных частиц в области обрабатываемого изделия, при условии уменьшения количества заряженных частиц, генерируемых из области катодных пятен.</p>
<p style="text-align: justify;"><span>Таким образом, исследования вакуумно-дугового источника плазмы, позволили, на основе выявленной закономерности развития дугового разряда, разработать режимы работы испарителя для формирования покрытий или модифицирования свойств поверхности [11–13].</span></p>
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>https://technology.snauka.ru/2015/08/7706/feed</wfw:commentRss>
		<slash:comments>0</slash:comments>
		</item>
	</channel>
</rss>
