Электронный научно-практический журнал «Современная техника и технологии» » Александр Запевалин https://technology.snauka.ru Fri, 30 Jan 2026 18:56:12 +0000 en hourly 1 http://wordpress.org/?v=3.2.1 Lag effects in the plasma etching of silicon https://technology.snauka.ru/en/2014/06/3972 https://technology.snauka.ru/en/2014/06/3972#comments Sun, 08 Jun 2014 15:05:22 +0000 Александр Запевалин https://technology.snauka.ru/?p=3972 Sorry, this article is only available in Русский.

]]> https://technology.snauka.ru/en/2014/06/3972/feed 0 An overview of high-Aspect process silicon etching https://technology.snauka.ru/en/2014/06/3970 https://technology.snauka.ru/en/2014/06/3970#comments Thu, 12 Jun 2014 15:19:01 +0000 Александр Запевалин https://technology.snauka.ru/?p=3970 Sorry, this article is only available in Русский.

]]> https://technology.snauka.ru/en/2014/06/3970/feed 0